Оптичнi та електрофiзичнi властивостi гетероструктури 95% In2O3 + 5% SnO2/ns-Si
Optical and electrical properties of 95% In2O3 + 5% SnO2/ns-Si heterostructures with films 6 and 12 nm in thickness deposited on a nanostructured silicon surface by the magnetron sputtering have been considered. It is shown that the 6-nm film is characterized by several peaks in the optical absorpti...
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English Ukrainian |
Опубліковано: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
|
Теми: | |
Онлайн доступ: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019105 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |