Вплив парціального тиску азоту на реактивне магнетронне розпилення Ti13Cu87 мішені: моделювання хімічного складу

A sintered Ti13Cu87 composite target was reactively sputtered in Ar–N2 gas mixtures, and sputtered species were deposited on Si (111) substrates. We study the pressure-dependent target mode variation of the Ti13Cu87–N2 system, by measuring the N2 partial pressure, deposition rate, target voltage, an...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Publishing house "Academperiodika"
Дата:2012
Автори: Rahmati, A., Khanzadeh, M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2012
Теми:
-
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021247
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!

Репозиторії

Ukrainian Journal of Physics