Вплив парціального тиску азоту на реактивне магнетронне розпилення Ti13Cu87 мішені: моделювання хімічного складу
A sintered Ti13Cu87 composite target was reactively sputtered in Ar–N2 gas mixtures, and sputtered species were deposited on Si (111) substrates. We study the pressure-dependent target mode variation of the Ti13Cu87–N2 system, by measuring the N2 partial pressure, deposition rate, target voltage, an...
Gespeichert in:
| Datum: | 2012 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Publishing house "Academperiodika"
2012
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2021247 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |