Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування

The study of films containing narrow-gap semiconductors is a very promising field related to the production of thermal sensors. In this work, we consider the possibility of obtaining the film coatings from silicides of Ba, Na, Ni, Co, Pd, Mn, and P and BaTiO3 using ionplasma methods. The production...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2023
Hauptverfasser: Normuradov, M.T., Khozhiev, Sh.T., Dovranov, K.T., Davranov, Kh.T., Davlatov, M.A., Khollokov, F.K.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2023
Schlagworte:
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022517
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics
_version_ 1863131476327923712
author Normuradov, M.T.
Khozhiev, Sh.T.
Dovranov, K.T.
Davranov, Kh.T.
Davlatov, M.A.
Khollokov, F.K.
author_facet Normuradov, M.T.
Khozhiev, Sh.T.
Dovranov, K.T.
Davranov, Kh.T.
Davlatov, M.A.
Khollokov, F.K.
author_sort Normuradov, M.T.
baseUrl_str https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/oai
collection OJS
datestamp_date 2023-05-12T06:49:34Z
description The study of films containing narrow-gap semiconductors is a very promising field related to the production of thermal sensors. In this work, we consider the possibility of obtaining the film coatings from silicides of Ba, Na, Ni, Co, Pd, Mn, and P and BaTiO3 using ionplasma methods. The production of film coatings from metal silicides and BaTiO3 on the surface of crystalline silicon and mica and their electronic and X-ray structural characteristics are studied. The dependence of the properties of film coatings on the conditions of the film deposition is determined.
doi_str_mv 10.15407/ujpe68.3.210
first_indexed 2025-10-02T01:18:43Z
format Article
id ujp2-article-2022517
institution Ukrainian Journal of Physics
keywords_txt_mv keywords
language English
last_indexed 2025-10-02T01:18:43Z
publishDate 2023
publisher Publishing house "Academperiodika"
record_format ojs
spelling ujp2-article-20225172023-05-12T06:49:34Z Development of Technology for Obtaining Nanosized Heterostructured Films by Ion-Plasma Deposition Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування Normuradov, M.T. Khozhiev, Sh.T. Dovranov, K.T. Davranov, Kh.T. Davlatov, M.A. Khollokov, F.K. metal silicides X-ray phase analysis Miller indices interplanar distance strict single-crystal structure barium titanate amorphous phase crystalline phase сiлiциди металiв рентгенiвський фазовий аналiз iндекси Мiллера мiжплощинна вiдстань структура монокристала тiтанат барiю аморфна фаза кристалiчна фаза The study of films containing narrow-gap semiconductors is a very promising field related to the production of thermal sensors. In this work, we consider the possibility of obtaining the film coatings from silicides of Ba, Na, Ni, Co, Pd, Mn, and P and BaTiO3 using ionplasma methods. The production of film coatings from metal silicides and BaTiO3 on the surface of crystalline silicon and mica and their electronic and X-ray structural characteristics are studied. The dependence of the properties of film coatings on the conditions of the film deposition is determined. Дослiдження плiвок, що мiстять вузькощiлиннi напiвпровiдники, є дуже перспективним напрямком, пов’язаним iз виробництвом теплових сенсорiв. Ми розглядаємо можливiсть створення плiвкових покриттiв iз BaTiO3 i сiлiцидiв елементiв Ba, Na, Ni, Co, Pd, Mn та P iонно-плазмовим методом. Такi покриття отримано нами на поверхнях кристалiчного кремнiю та слюди. Дослiджено їхнi електроннi та рентгеноструктурнi характеристики. Визначено залежнiсть властивостей плiвкових покриттiв вiд умов їх створення. Publishing house "Academperiodika" 2023-05-11 Article Article Original Research Article (peer-reviewed) Оригінальна дослідницька стаття (з незалежним рецензуванням) application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022517 10.15407/ujpe68.3.210 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 68 No. 3 (2023); 210 Український фізичний журнал; Том 68 № 3 (2023); 210 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe68.3 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022517/2970 Copyright (c) 2023 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
spellingShingle сiлiциди металiв
рентгенiвський фазовий аналiз
iндекси Мiллера
мiжплощинна вiдстань
структура монокристала
тiтанат барiю
аморфна фаза
кристалiчна фаза
Normuradov, M.T.
Khozhiev, Sh.T.
Dovranov, K.T.
Davranov, Kh.T.
Davlatov, M.A.
Khollokov, F.K.
Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title_alt Development of Technology for Obtaining Nanosized Heterostructured Films by Ion-Plasma Deposition
title_full Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title_fullStr Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title_full_unstemmed Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title_short Розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
title_sort розробка технології виготовлення нанорозмірних плівок з неоднорідною структурою методом іонно-плазмового осаджування
topic сiлiциди металiв
рентгенiвський фазовий аналiз
iндекси Мiллера
мiжплощинна вiдстань
структура монокристала
тiтанат барiю
аморфна фаза
кристалiчна фаза
topic_facet metal silicides
X-ray phase analysis
Miller indices
interplanar distance
strict single-crystal structure
barium titanate
amorphous phase
crystalline phase
сiлiциди металiв
рентгенiвський фазовий аналiз
iндекси Мiллера
мiжплощинна вiдстань
структура монокристала
тiтанат барiю
аморфна фаза
кристалiчна фаза
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2022517
work_keys_str_mv AT normuradovmt developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT khozhievsht developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT dovranovkt developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT davranovkht developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT davlatovma developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT khollokovfk developmentoftechnologyforobtainingnanosizedheterostructuredfilmsbyionplasmadeposition
AT normuradovmt rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ
AT khozhievsht rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ
AT dovranovkt rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ
AT davranovkht rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ
AT davlatovma rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ
AT khollokovfk rozrobkatehnologíívigotovlennânanorozmírnihplívokzneodnorídnoûstrukturoûmetodomíonnoplazmovogoosadžuvannâ