Харвестер відкритої науки НАН України

Effect of chemical and radiofrequency plasma treatment on photoluminescence of SiOx films

за авторством Indutnyy, I.Z., Lysenko, V.S., Min'ko, V.I., Nazarov, A.N., Tkachenko, A.S., Shepeliavyi, P.E., Dan'ko, V.A., Maidanchuk, I.Yu.
Опубліковано в: Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics (2006)