Харвестер відкритої науки НАН України

Lifetime of electrons in dense plasma

von O. A. Fedorovich, L. M. Voitenko
Veröffentlicht 2017

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures

von V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich
Veröffentlicht 2017

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures

von V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich
Veröffentlicht 2017

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field

von V. V. Gladkovskij, O. A. Fedorovich
Veröffentlicht 2017

The influence of HF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor "Almaz" for the synthesis of diamond-like carbon...

von V. V. Gladkovskij, E. G. Kostin, B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, V. A. Petrjakov
Veröffentlicht 2014

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters

von B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, V. N. Golotjuk, A. A. Marinenko, D. V. Lukomskij
Veröffentlicht 2006

Modulation polarimetry of full internal reflection, broken by diamond-like films

von L. S. Maksimenko, O. N. Mishchuk, I. E. Matjash, B. K. Serdega, E. G. Kostin, B. P. Polozov, O. A. Fedorovich, G. K. Savinkov
Veröffentlicht 2013