Результати пошуку - Borisenko, A.G.
- Показ 1 - 9 результатів із 9
-
1
-
2
Источник бескапельных плазменных потоков для наноэлектроники за авторством Borisenko, A. G.
Опубліковано 2013Отримати повний текст
Стаття -
3
Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge за авторством Borisenko, A.G., Podzirei, Yu.S.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2015)Отримати повний текст
Стаття -
4
Non-self-sustained arc discharge in vapors of constructional materials of nuclear power engineering за авторством Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Rokytskyi, O.А., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2018)Отримати повний текст
Стаття -
5
Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium за авторством Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Rokytskyi, O.A., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2019)Отримати повний текст
Стаття -
6
Modified helicon discharge excited by a linear inductive antenna за авторством Borisenko, A.G., Beloshenko, M.A., Virko, V.F., Virko, Yu.V., Slobodyan, V.M.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2014)Отримати повний текст
Стаття -
7
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия за авторством Borisenko, A. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Boltovets, M. S., Ivanov, V. N., Sveschnikov, Yu. N.
Опубліковано 2005Отримати повний текст
Стаття -
8
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления за авторством Boltovets, M. S., Borisenko, A. G., Ivanov, V. N., Fedorovich, О. А., Krivutsa, V. A., Polozov, B. P.
Опубліковано 2009Отримати повний текст
Стаття -
9
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation за авторством Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2007)Отримати повний текст
Стаття
Інструменти для пошуку:
Пов'язані теми
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Low temperature plasma and plasma technologies
4NSiC silicon carbide
Applications and technologies
anode
arc discharge
diode chip
epitaxial layers
gallium nitride
ion-plasma etching
mesastructure
nanostructure
plasma-chemical etching
plasma-chemical reactor
p–i–n-diode
p–i–n-диод
silicon etching
vacuum
анод
вакуум
дуговой разряд
карбид кремния 4НSiC
мезаструктура
наноструктура
нитрид галлия
плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
травление ионно-плазменное
травление кремния
чип диода