Харвестер відкритої науки НАН України

Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor

за авторством Dudin, S.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Опубліковано 2010

Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обе­с­пе­чи­ва­ю­щий минимальную интенсивность отказов...

за авторством Dudin, S. V., Lisovskiy, V. А., Dahov, A. N., Pletniov, V. M.
Опубліковано 2011

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering

за авторством Dudin, S.V., Farenik, V.I., Dahov, A.N., Walkowicz, J.
Опубліковано в: Физическая инженерия поверхности (2005)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching

за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2006)

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools

за авторством Gapon, A.V., Dahov, A.N., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Azarenkov, N.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2006)