Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor

за авторством Dudin, S.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Опубліковано 2010

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering

за авторством Dudin, S.V., Farenik, V.I., Dahov, A.N., Walkowicz, J.
Опубліковано 2005

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching

за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Опубліковано 2006

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools

за авторством Gapon, A.V., Dahov, A.N., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Azarenkov, N.A.
Опубліковано 2006