Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor von Dudin, S.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Volltext

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering von Dudin, S.V., Farenik, V.I., Dahov, A.N., Walkowicz, J.

Volltext

Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обе­с­пе­чи­ва­ю­щий минимальную интенсивность отказов... von Dudin, S. V., Lisovskiy, V. А., Dahov, A. N., Pletniov, V. M.

Volltext

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching von Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Volltext

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools von Gapon, A.V., Dahov, A.N., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Azarenkov, N.A.

Volltext