Spatial distributions of plasma parameters in ICP reactor за авторством Dudin, S.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering за авторством Dudin, S.V., Farenik, V.I., Dahov, A.N., Walkowicz, J.

Отримати повний текст

Режим работы двухкаскадного термоэлектрического охлаждающего устройства, обе­с­пе­чи­ва­ю­щий минимальную интенсивность отказов... за авторством Dudin, S. V., Lisovskiy, V. А., Dahov, A. N., Pletniov, V. M.

Отримати повний текст

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.

Отримати повний текст

2D fluid model for interactive development of ICP technological tools за авторством Gapon, A.V., Dahov, A.N., Dudin, S.V., Zykov, A.V., Azarenkov, N.A.

Отримати повний текст