2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22drspiprikievua-article-105215%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22drspiprikievua-article-105215%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Registration Materials for Laser Thermolithography

The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of lase...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Kryuchyn, A. A., Rubish, V. M., Kostiukevych, S. O., Minko, V. I., Shepelyavy, P. E., Lysyuk, V. O., Kostyukevych, K. V., Surmach, M. A.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2012
Subjects:
Online Access:http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id drspiprikievua-article-105215
record_format ojs
spelling drspiprikievua-article-1052152024-08-30T12:21:16Z Registration Materials for Laser Thermolithography Регистрирующие материалы для лазерной термолитографии Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії Kryuchyn, A. A. Rubish, V. M. Kostiukevych, S. O. Minko, V. I. Shepelyavy, P. E. Lysyuk, V. O. Kostyukevych, K. V. Surmach, M. A. термолітографія неорганічні фоторезисти нелінійна експозиційна характеристика термолитография неорганические фоторезисты нелинейная экспозиционная характеристика thermolithography inorganic photoresists nonlinear exposure characteristics The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented. Fig.: 3. Refs: 21 titles. Представлены результаты анализа свойств фоточувствительных материалов с нелинейной экспозиционной характеристикой. Показано, что существует ряд фото(термо)чувствительных ма-териалов, позволяющих регистрировать изображения, размеры которых меньше диаметра экспонирующего луча. Представлены результаты лазерной записи на неорганических фоторезистах. Ил.: 3. Библиогр.: 21 наим. Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менше діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерного запису на неорганічних фоторезистах. Іл.: 3. Бібліогр.: 21 найм. Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2012-09-18 Article Article application/pdf http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215 10.35681/1560-9189.2012.14.3.105215 Data Recording, Storage & Processing; Vol. 14 No. 3 (2012); 3-11 Регистрация, хранение и обработка данных; Том 14 № 3 (2012); 3-11 Реєстрація, зберігання і обробка даних; Том 14 № 3 (2012); 3-11 1560-9189 uk http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215/100394 Авторське право (c) 2012 Реєстрація, зберігання і обробка даних
institution Data Recording, Storage & Processing
baseUrl_str
datestamp_date 2024-08-30T12:21:16Z
collection OJS
language Ukrainian
topic термолітографія
неорганічні фоторезисти
нелінійна експозиційна характеристика
термолитография
неорганические фоторезисты
нелинейная экспозиционная характеристика
thermolithography
inorganic photoresists
nonlinear exposure characteristics
spellingShingle термолітографія
неорганічні фоторезисти
нелінійна експозиційна характеристика
термолитография
неорганические фоторезисты
нелинейная экспозиционная характеристика
thermolithography
inorganic photoresists
nonlinear exposure characteristics
Kryuchyn, A. A.
Rubish, V. M.
Kostiukevych, S. O.
Minko, V. I.
Shepelyavy, P. E.
Lysyuk, V. O.
Kostyukevych, K. V.
Surmach, M. A.
Registration Materials for Laser Thermolithography
topic_facet термолітографія
неорганічні фоторезисти
нелінійна експозиційна характеристика
термолитография
неорганические фоторезисты
нелинейная экспозиционная характеристика
thermolithography
inorganic photoresists
nonlinear exposure characteristics
format Article
author Kryuchyn, A. A.
Rubish, V. M.
Kostiukevych, S. O.
Minko, V. I.
Shepelyavy, P. E.
Lysyuk, V. O.
Kostyukevych, K. V.
Surmach, M. A.
author_facet Kryuchyn, A. A.
Rubish, V. M.
Kostiukevych, S. O.
Minko, V. I.
Shepelyavy, P. E.
Lysyuk, V. O.
Kostyukevych, K. V.
Surmach, M. A.
author_sort Kryuchyn, A. A.
title Registration Materials for Laser Thermolithography
title_short Registration Materials for Laser Thermolithography
title_full Registration Materials for Laser Thermolithography
title_fullStr Registration Materials for Laser Thermolithography
title_full_unstemmed Registration Materials for Laser Thermolithography
title_sort registration materials for laser thermolithography
title_alt Регистрирующие материалы для лазерной термолитографии
Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії
description The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented. Fig.: 3. Refs: 21 titles.
publisher Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
publishDate 2012
url http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215
work_keys_str_mv AT kryuchynaa registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT rubishvm registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT kostiukevychso registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT minkovi registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT shepelyavype registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT lysyukvo registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT kostyukevychkv registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT surmachma registrationmaterialsforlaserthermolithography
AT kryuchynaa registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT rubishvm registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT kostiukevychso registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT minkovi registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT shepelyavype registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT lysyukvo registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT kostyukevychkv registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT surmachma registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii
AT kryuchynaa reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT rubishvm reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT kostiukevychso reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT minkovi reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT shepelyavype reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT lysyukvo reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT kostyukevychkv reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
AT surmachma reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí
first_indexed 2024-04-21T19:33:37Z
last_indexed 2024-08-31T04:03:22Z
_version_ 1810018562188771328