2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22drspiprikievua-article-105215%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22drspiprikievua-article-105215%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T09:06:13-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Registration Materials for Laser Thermolithography
The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of lase...
Saved in:
Main Authors: | , , , , , , , |
---|---|
Format: | Article |
Language: | Ukrainian |
Published: |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України
2012
|
Subjects: | |
Online Access: | http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
id |
drspiprikievua-article-105215 |
---|---|
record_format |
ojs |
spelling |
drspiprikievua-article-1052152024-08-30T12:21:16Z Registration Materials for Laser Thermolithography Регистрирующие материалы для лазерной термолитографии Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії Kryuchyn, A. A. Rubish, V. M. Kostiukevych, S. O. Minko, V. I. Shepelyavy, P. E. Lysyuk, V. O. Kostyukevych, K. V. Surmach, M. A. термолітографія неорганічні фоторезисти нелінійна експозиційна характеристика термолитография неорганические фоторезисты нелинейная экспозиционная характеристика thermolithography inorganic photoresists nonlinear exposure characteristics The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented. Fig.: 3. Refs: 21 titles. Представлены результаты анализа свойств фоточувствительных материалов с нелинейной экспозиционной характеристикой. Показано, что существует ряд фото(термо)чувствительных ма-териалов, позволяющих регистрировать изображения, размеры которых меньше диаметра экспонирующего луча. Представлены результаты лазерной записи на неорганических фоторезистах. Ил.: 3. Библиогр.: 21 наим. Представлено результати аналізу властивостей фоточутливих матеріалів з нелінійною експозиційною характеристикою. Показано, що існує низка фото(термо)чутливих матеріалів, що дозволяють реєструвати зображення, розміри елементів яких менше діаметра експонуючого променя. Представлено результати лазерного запису на неорганічних фоторезистах. Іл.: 3. Бібліогр.: 21 найм. Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2012-09-18 Article Article application/pdf http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215 10.35681/1560-9189.2012.14.3.105215 Data Recording, Storage & Processing; Vol. 14 No. 3 (2012); 3-11 Регистрация, хранение и обработка данных; Том 14 № 3 (2012); 3-11 Реєстрація, зберігання і обробка даних; Том 14 № 3 (2012); 3-11 1560-9189 uk http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215/100394 Авторське право (c) 2012 Реєстрація, зберігання і обробка даних |
institution |
Data Recording, Storage & Processing |
baseUrl_str |
|
datestamp_date |
2024-08-30T12:21:16Z |
collection |
OJS |
language |
Ukrainian |
topic |
термолітографія неорганічні фоторезисти нелінійна експозиційна характеристика термолитография неорганические фоторезисты нелинейная экспозиционная характеристика thermolithography inorganic photoresists nonlinear exposure characteristics |
spellingShingle |
термолітографія неорганічні фоторезисти нелінійна експозиційна характеристика термолитография неорганические фоторезисты нелинейная экспозиционная характеристика thermolithography inorganic photoresists nonlinear exposure characteristics Kryuchyn, A. A. Rubish, V. M. Kostiukevych, S. O. Minko, V. I. Shepelyavy, P. E. Lysyuk, V. O. Kostyukevych, K. V. Surmach, M. A. Registration Materials for Laser Thermolithography |
topic_facet |
термолітографія неорганічні фоторезисти нелінійна експозиційна характеристика термолитография неорганические фоторезисты нелинейная экспозиционная характеристика thermolithography inorganic photoresists nonlinear exposure characteristics |
format |
Article |
author |
Kryuchyn, A. A. Rubish, V. M. Kostiukevych, S. O. Minko, V. I. Shepelyavy, P. E. Lysyuk, V. O. Kostyukevych, K. V. Surmach, M. A. |
author_facet |
Kryuchyn, A. A. Rubish, V. M. Kostiukevych, S. O. Minko, V. I. Shepelyavy, P. E. Lysyuk, V. O. Kostyukevych, K. V. Surmach, M. A. |
author_sort |
Kryuchyn, A. A. |
title |
Registration Materials for Laser Thermolithography |
title_short |
Registration Materials for Laser Thermolithography |
title_full |
Registration Materials for Laser Thermolithography |
title_fullStr |
Registration Materials for Laser Thermolithography |
title_full_unstemmed |
Registration Materials for Laser Thermolithography |
title_sort |
registration materials for laser thermolithography |
title_alt |
Регистрирующие материалы для лазерной термолитографии Реєструвальні матеріали для лазерної термолітографії |
description |
The results of analysis on the photosensitive properties of materials with nonlinear exposition characteristic have been performed. It is shown that some photo(thermo)sensitive materials allow to register the image of elements having sizes less than the diameter of exposing beam. The results of laser writing to inorganic photoresists are presented. Fig.: 3. Refs: 21 titles. |
publisher |
Інститут проблем реєстрації інформації НАН України |
publishDate |
2012 |
url |
http://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/105215 |
work_keys_str_mv |
AT kryuchynaa registrationmaterialsforlaserthermolithography AT rubishvm registrationmaterialsforlaserthermolithography AT kostiukevychso registrationmaterialsforlaserthermolithography AT minkovi registrationmaterialsforlaserthermolithography AT shepelyavype registrationmaterialsforlaserthermolithography AT lysyukvo registrationmaterialsforlaserthermolithography AT kostyukevychkv registrationmaterialsforlaserthermolithography AT surmachma registrationmaterialsforlaserthermolithography AT kryuchynaa registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT rubishvm registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT kostiukevychso registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT minkovi registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT shepelyavype registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT lysyukvo registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT kostyukevychkv registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT surmachma registriruûŝiematerialydlâlazernojtermolitografii AT kryuchynaa reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT rubishvm reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT kostiukevychso reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT minkovi reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT shepelyavype reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT lysyukvo reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT kostyukevychkv reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí AT surmachma reêstruvalʹnímateríalidlâlazernoítermolítografíí |
first_indexed |
2024-04-21T19:33:37Z |
last_indexed |
2024-08-31T04:03:22Z |
_version_ |
1810018562188771328 |