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Direct laser writing technology for microrelief metal structures on thin chromium films

Direct laser writing is increasingly considered a promising maskless alternative to conventional photolithography for the fabrication of microrelief structures required in photonics, micro-optics, and information-optical systems. The present study investigates the formation of micro-structured relie...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2026
Hauptverfasser:	Чегіль, Ю. І., Буток, О. М., Беляк, Є. В., Крючин, А. А.
Format:	Artikel
Sprache:	Ukrainisch
Veröffentlicht:	Інститут проблем реєстрації інформації НАН України 2026
Schlagworte:	direct laser writing laser ablation microrelief structures thin chromium films diffraction optical elements pulsed laser radiation laser micromachining
Online Zugang:	https://drsp.ipri.kiev.ua/article/view/363130
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Назва журналу:	Data Recording, Storage & Processing
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Data Recording, Storage & Processing

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