The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices

• Видавець: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
• Дата: 2008
• Автори: Bondarenko, V.N., Belyaeva, A.I., Galuza, A.A., Konovalov, V.G., Kudlenko, A.D., Ryzhkov, I.V., Shtan’, A.F., Solodovchenko, S.I., Voitsenya, V.S.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Low temperature plasma and plasma technologies
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110980
• Цитувати: The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices / V.N. Bondarenko, A.I. Belyaeva, A.A. Galuza, V.G. Konovalov, A.D. Kudlenko, I.V. Ryzhkov, A.F. Shtan’, S.I. Solodovchenko, V.S. Voitsenya // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 165-167. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

The optical methods with the use of in-vessel first mirrors (FMs) are expected to occupy an important place in the diagnostic complex of the future fusion reactor ITER. As the surface of FMs will be subjected to physical sputtering by high-energy D and T charge-exchange atoms, this can lead to a dec...