The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
We describe the state-of-the-art method of monitoring optical parameters the cylindrical gas discharge plasma of magnetron type. An analysis and characterization of the spectrum during a process of titanium nitride deposition is carried out. The optimum conditions of titanium nitride synthesis on su...
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | Demchishin, A.V., Evsyukov, A.N., Goncharov, A.A., Kostin, E.G. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111035 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition / A.V. Demchishin, A.N. Evsyukov, A.A. Goncharov, E.G. Kostin // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 195-197. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021) -
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005) -
Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007) -
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020) -
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)