Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system

• Дата: 2013
• Автори: Semenyuk, V.F., Virko, V.F., Korotash, I.V., Osipov, L.S., Polotsky, D.Yu., Rudenko, E.M., Slobodyan, V.M., Shamrai, K.P.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112183
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential.