Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
The investigation results of optimal conditions for synthesis of thin-film tantalum oxide dielectric coatings using the cluster multipurpose setup are presented. The set-up consist of DC magnetron, ICP source, and mediumenergy ion source. Tantalum oxide was deposited by reactive magnetron sputteri...
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115455 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 248-251. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |