Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP

Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2012
Автори: Круковський, C.I., Сукач, А.В., Тетьоркін, В.В., Мрихін, І.О., Михащук, Ю.С.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Назва видання:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116717
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-116717
record_format dspace
spelling irk-123456789-1167172017-05-15T03:02:44Z Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP Круковський, C.I. Сукач, А.В. Тетьоркін, В.В. Мрихін, І.О. Михащук, Ю.С. Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком, призводить до збігу металургійної та електричної гетеромеж, що обумовлю є реалізацію ефекту «широкозонного вікна» на спектрах фоточутливості гетеропереход ів. Проаналізовано еволюцію спектрів електролюмінесценції гетеропереход ів залежно від технологічних режимів їх вирощування і показано можливість їх використання для створення ефективних ІЧ-світлодіодів з λmax = 1,06 мкм. The effect of technological regimes of growing of double heterojunctions p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP by LPE on their photovoltaic properties is investigated. It is shown that growing of additional buffer layer of n-InP on n-InGaAsP and reducing the growth time of emitter p⁺-InP layer doped with zinc leads to match metallurgical and electrical heterojunctions, which makes the implementation of «wide-window» effect in the photosensitivity spectra of heterojunctions. The evolution of electroluminescence spectra of heterojunctions is analyzed, depending on thechnological regime of growth and possibility of using them to create efficient IR LED with λmax = 1,06 microns is shown. 2012 Article Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. 0233-7577 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116717 621.315.592 uk Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
description Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком, призводить до збігу металургійної та електричної гетеромеж, що обумовлю є реалізацію ефекту «широкозонного вікна» на спектрах фоточутливості гетеропереход ів. Проаналізовано еволюцію спектрів електролюмінесценції гетеропереход ів залежно від технологічних режимів їх вирощування і показано можливість їх використання для створення ефективних ІЧ-світлодіодів з λmax = 1,06 мкм.
format Article
author Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
spellingShingle Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
author_facet Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
author_sort Круковський, C.I.
title Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_short Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_full Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_fullStr Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_full_unstemmed Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_sort фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-inp/n-ingaasp/n-inp
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2012
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116717
citation_txt Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
series Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
work_keys_str_mv AT krukovsʹkijci fotoelektričnívlastivostípodvíjnihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT sukačav fotoelektričnívlastivostípodvíjnihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT tetʹorkínvv fotoelektričnívlastivostípodvíjnihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT mrihínío fotoelektričnívlastivostípodvíjnihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT mihaŝukûs fotoelektričnívlastivostípodvíjnihgeteroperehodívpinpningaaspninp
first_indexed 2023-10-18T20:28:13Z
last_indexed 2023-10-18T20:28:13Z
_version_ 1796150279151812608