Characteristics of gettering process in multicrystalline Si wafers with combined porous Si/Al getters
In this work, the gettering process in the multicrystalline Si wafers by the combined getter structures of the porous Si and Al layers during annealings at temperatures 600 up to 750 °C has been theoretically studied. A kinetic model based on the diffusion equation has been developed, and the charac...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2012
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118257 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Characteristics of gettering process in multicrystalline Si wafers with combined porous Si/Al getters / Sarikov, V. Naseka // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2012. — Т. 15, № 1. — С. 8-12. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |