Metrological aspects of researching the specific contact resistivity of ohmic contacts by using the four-contact method
In this paper, we have considered the four-contact method for measurements of the specific contact resistivity of the ohmic contacts (ρc). The presented method for measuring ρc has been compared with several other methods. Limits of applying this method have been shown.
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2014
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118426 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Metrological aspects of researching the specific contact resistivity of ohmic contacts by using the four-contact method / V.N. Sheremet // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2014. — Т. 17, № 4. — С. 394-397. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |