Two-dimensional modeling the static parameters for a submicron field-effect transistor
A comparison of two different models for simulation of submicron GaAs MESFETs static characteristics has been made. A new two-dimensional numerical model is presented to investigate the submicron field-effect transistor characteristics, the influence of the geometry of the component, like the int...
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2009
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118847 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Two-dimensional modeling the static parameters for a submicron field-effect transistor / M. Zaabat, M. Draid // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2009. — Т. 12, № 4. — С. 417-420. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |