Novel hysteresis effect in ultrathin epitaxial Gd₂O₃ high-k dielectric
Charge trapping in ultrathin high-k Gd₂O₃ dielectric leading to appearance of hysteresis in C–V curves is studied by capacitance-voltage, conductance-frequency and current-voltage techniques at different temperatures. It was shown that the large leakage current at a negative gate voltage causes t...
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | Nazarov, A.N., Gomeniuk, Y.V., Gomeniuk, Y.Y., Lysenko, V.S., Gottlob, H.D.B., Schmidt, M., Lemme, M.C., Czernohorsky, M., Ostenc, H.J. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2008
|
Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119074 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Novel hysteresis effect in ultrathin epitaxial Gd₂O₃ high-k dielectric / A. N. Nazarov, Y. V. Gomeniuk, Y. Y. Gomeniuk, V. S. Lysenko, H. D. B. Gottlob, M. Schmidt, M. C. Lemme, M. Czernohorsky, H. J. Ostenc // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2008. — Т. 11, № 4. — С. 324-328. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Current transport mechanisms in metal – high-k dielectric – silicon structures
за авторством: Gomeniuk, Y.V.
Опубліковано: (2012) -
Current transport mechanisms in metal - high-k dielectric - silicon structures
за авторством: Y. V. Gomeniuk
Опубліковано: (2012) -
Effect of oxide-semiconductor interface traps on low-temperature operation of MOSFETs
за авторством: Lysenko, V.S., та інші
Опубліковано: (2001) -
Effect of the charge state of traps on the transport current in the SiC/Si heterostructure
за авторством: Lysenko, V.S., та інші
Опубліковано: (2000) -
Determination of interface state density in high-k dielectric-silicon system from conductance-frequency measurements
за авторством: Yu. V. Gomeniuk
Опубліковано: (2012)