Optimization of technological parameters of ohmic contact junctions for GaAs-AlGaAs-based transistor structures

The work deals with study and optimization of the technological parameters of ohmic contacts for HEMTs. It is shown that the depth of fusion front penetration into semiconductor is the main factor that determines ohmic properties of contact junctions.

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2002
Автори: Konakova, R.V., Milenin, V.V., Stovpovoi, M.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121191
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Optimization of technological parameters of ohmic contact junctions for GaAs-AlGaAs-based transistor structures / R.V. Konakova, V.V. Milenin, M.A. Stovpovoi // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2002. — Т. 5, № 2. — С. 180-182. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси