Voids’ layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions

Structural and optical properties of single crystal silicon irradiated with 27.2 MeV helium ions by using fluences Ф ≥ 10¹⁶ ion/cm² were studied at various beam currents. It was found that at currents 0.25 to 0.45 μА, heavily damaged layers containing voids were formed in ion path in Si and behind...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Starchyk, M.I., Marchenko, L.S., Pinkovska, M.B., Shmatko, G.G., Varnina, V.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2015
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121198
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Voids’ layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions / M.I. Starchyk, L.S. Marchenko, M.B. Pinkovska, G.G. Shmatko, V.I. Varnina // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2015. — Т. 18, № 3. — С. 292-296. — Бібліогр.: 11 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine