Voids’ layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions
Structural and optical properties of single crystal silicon irradiated with 27.2 MeV helium ions by using fluences Ф ≥ 10¹⁶ ion/cm² were studied at various beam currents. It was found that at currents 0.25 to 0.45 μА, heavily damaged layers containing voids were formed in ion path in Si and behind...
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2015
|
Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121198 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Voids’ layer structures in silicon irradiated with high doses of high-energy helium ions / M.I. Starchyk, L.S. Marchenko, M.B. Pinkovska, G.G. Shmatko, V.I. Varnina // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2015. — Т. 18, № 3. — С. 292-296. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineБудьте першим, хто залишить коментар!