Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2

Описаны конструкция и особенности плазменного разряда источника ионов с подогреваемым катодом, предназначенного для использования на технологической установке ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2. Приведены зависимости тока пучка от параметров разряда....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Марченко, Ю.А., Перун, Н.В., Сасса, И.В., Ванжа, А.Ф.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2010
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/15671
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Источник ионов для установки ионно-стимулированного осаждения покрытий АРГО-2 / Ю.А. Марченко, Н.В. Перун, И.В. Сасса, А.Ф. Ванжа // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 1. — С. 157-160. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine