Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride

Processes in reactive plasma during the magnetron deposition of tantalum oxynitride with ICP activation of reactive gas are studied in dependence on Oxygen fraction. Results of spectroscopic study of optical emission from the plasma and of mass-spectrometry of gas composition in the vacuum chamber i...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2021
Автори: Dudin, S., Yakovin, S., Zykov, A., Yefymenko, N.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194770
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride / S. Dudin, S. Yakovin, A. Zykov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 122-126. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine