Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtainin...
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-194956 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-1949562023-12-01T20:52:10Z Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system Afanasіeva, I.A. Afanasiev, S.N. Azarenkov, N.A. Bobkov, V.V. Gritsyna, V.V. Logachev, Yu.E. Okseniuk, I.I. Skrypnyk, A.A. Shevchenko, D.I. Chornous, V.M. Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtaining qualitative and quantitative characteristics of the magnetron discharge plasma. The obtained information about the distribution of excited particles along the direction parallel to the axis of the magnetron discharge permits one to control the mode of the discharge operation and, as a consequence, the properties of the deposited coatings. Для вирішення актуального завдання, пов'язаного з аналізом світіння розпилених частинок при нанесенні покриттів у магнетронно-розпилювальній системі, була запропонована цифрова методика обробки спектрів випромінювання плазми розряду. Створено графічний додаток OSA, що дозволяє отримати якісні та кількісні характеристики плазми магнетронного розряду. Отримана інформація про розподіл збуджених частинок вздовж напрямку, паралельного осі магнетронного розряду, дозволяє контролювати режим роботи розряду і, як наслідок, властивості нанесених покриттів. Для решения актуальной задачи, связанной c анализом свечения распыляемых частиц при нанесении покрытий в магнетронно-распылительной системе, была предложена цифровая методика обработки спектров излучения плазмы разряда. Создано графическое приложение OSA, позволяющее получить качественные и количественные характеристики плазмы магнетронного разряда. Полученная информация о распределении возбужденных частиц вдоль направления, параллельного оси магнетронного разряда, позволяет контролировать режим работы разряда и, как следствие, свойства наносимых покрытий. 2019 Article Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956 535.376 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies |
spellingShingle |
Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies Afanasіeva, I.A. Afanasiev, S.N. Azarenkov, N.A. Bobkov, V.V. Gritsyna, V.V. Logachev, Yu.E. Okseniuk, I.I. Skrypnyk, A.A. Shevchenko, D.I. Chornous, V.M. Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system Вопросы атомной науки и техники |
description |
To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtaining qualitative and quantitative characteristics of the magnetron discharge plasma. The obtained information about the distribution of excited particles along the direction parallel to the axis of the magnetron discharge permits one to control the mode of the discharge operation and, as a consequence, the properties of the deposited coatings. |
format |
Article |
author |
Afanasіeva, I.A. Afanasiev, S.N. Azarenkov, N.A. Bobkov, V.V. Gritsyna, V.V. Logachev, Yu.E. Okseniuk, I.I. Skrypnyk, A.A. Shevchenko, D.I. Chornous, V.M. |
author_facet |
Afanasіeva, I.A. Afanasiev, S.N. Azarenkov, N.A. Bobkov, V.V. Gritsyna, V.V. Logachev, Yu.E. Okseniuk, I.I. Skrypnyk, A.A. Shevchenko, D.I. Chornous, V.M. |
author_sort |
Afanasіeva, I.A. |
title |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
title_short |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
title_full |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
title_fullStr |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
title_full_unstemmed |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
title_sort |
digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2019 |
topic_facet |
Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956 |
citation_txt |
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT afanasíevaia digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT afanasievsn digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT azarenkovna digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT bobkovvv digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT gritsynavv digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT logachevyue digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT okseniukii digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT skrypnykaa digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT shevchenkodi digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem AT chornousvm digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem |
first_indexed |
2024-03-31T09:13:41Z |
last_indexed |
2024-03-31T09:13:41Z |
_version_ |
1796158003577094144 |