Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system

To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtainin...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Afanasіeva, I.A., Afanasiev, S.N., Azarenkov, N.A., Bobkov, V.V., Gritsyna, V.V., Logachev, Yu.E., Okseniuk, I.I., Skrypnyk, A.A., Shevchenko, D.I., Chornous, V.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-194956
record_format dspace
spelling irk-123456789-1949562023-12-01T20:52:10Z Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system Afanasіeva, I.A. Afanasiev, S.N. Azarenkov, N.A. Bobkov, V.V. Gritsyna, V.V. Logachev, Yu.E. Okseniuk, I.I. Skrypnyk, A.A. Shevchenko, D.I. Chornous, V.M. Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtaining qualitative and quantitative characteristics of the magnetron discharge plasma. The obtained information about the distribution of excited particles along the direction parallel to the axis of the magnetron discharge permits one to control the mode of the discharge operation and, as a consequence, the properties of the deposited coatings. Для вирішення актуального завдання, пов'язаного з аналізом світіння розпилених частинок при нанесенні покриттів у магнетронно-розпилювальній системі, була запропонована цифрова методика обробки спектрів випромінювання плазми розряду. Створено графічний додаток OSA, що дозволяє отримати якісні та кількісні характеристики плазми магнетронного розряду. Отримана інформація про розподіл збуджених частинок вздовж напрямку, паралельного осі магнетронного розряду, дозволяє контролювати режим роботи розряду і, як наслідок, властивості нанесених покриттів. Для решения актуальной задачи, связанной c анализом свечения распыляемых частиц при нанесении покрытий в магнетронно-распылительной системе, была предложена цифровая методика обработки спектров излучения плазмы разряда. Создано графическое приложение OSA, позволяющее получить качественные и количественные характеристики плазмы магнетронного разряда. Полученная информация о распределении возбужденных частиц вдоль направления, параллельного оси магнетронного разряда, позволяет контролировать режим работы разряда и, как следствие, свойства наносимых покрытий. 2019 Article Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956 535.376 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies
Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies
spellingShingle Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies
Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies
Afanasіeva, I.A.
Afanasiev, S.N.
Azarenkov, N.A.
Bobkov, V.V.
Gritsyna, V.V.
Logachev, Yu.E.
Okseniuk, I.I.
Skrypnyk, A.A.
Shevchenko, D.I.
Chornous, V.M.
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
Вопросы атомной науки и техники
description To solve the actual problem of the analysis of the sputtered particles radiation during coating deposition in a magnetron sputtering system, a digital technique was proposed for processing the emission spectra of the discharge plasma. A graphic OSA application has been created, which allows obtaining qualitative and quantitative characteristics of the magnetron discharge plasma. The obtained information about the distribution of excited particles along the direction parallel to the axis of the magnetron discharge permits one to control the mode of the discharge operation and, as a consequence, the properties of the deposited coatings.
format Article
author Afanasіeva, I.A.
Afanasiev, S.N.
Azarenkov, N.A.
Bobkov, V.V.
Gritsyna, V.V.
Logachev, Yu.E.
Okseniuk, I.I.
Skrypnyk, A.A.
Shevchenko, D.I.
Chornous, V.M.
author_facet Afanasіeva, I.A.
Afanasiev, S.N.
Azarenkov, N.A.
Bobkov, V.V.
Gritsyna, V.V.
Logachev, Yu.E.
Okseniuk, I.I.
Skrypnyk, A.A.
Shevchenko, D.I.
Chornous, V.M.
author_sort Afanasіeva, I.A.
title Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
title_short Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
title_full Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
title_fullStr Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
title_full_unstemmed Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
title_sort digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Physics of radiotechnology and ion-plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194956
citation_txt Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system / I.A. Afanasіeva, S.N. Afanasiev, N.A. Azarenkov, V.V. Bobkov, V.V. Gritsyna, Yu.E. Logachev, I.I. Okseniuk, A.A. Skrypnyk, D.I. Shevchenko, V.M. Chornous // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 2. — С. 164. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT afanasíevaia digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT afanasievsn digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT azarenkovna digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT bobkovvv digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT gritsynavv digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT logachevyue digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT okseniukii digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT skrypnykaa digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT shevchenkodi digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
AT chornousvm digitalprocessingofopticalemissionspectraofmagnetronsputteringplasmasystem
first_indexed 2024-03-31T09:13:41Z
last_indexed 2024-03-31T09:13:41Z
_version_ 1796158003577094144