Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system

Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the a...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2022
Автори: Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Makhlai, V.A., Kozhukhovskyi, B.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2022
Назва видання:Problems of Atomic Science and Technology
Теми:
Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195896
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-195896
record_format dspace
spelling irk-123456789-1958962023-12-08T12:57:53Z Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Kozhukhovskyi, B.M. Low temperature plasma and plasma technologies Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the additional anode magnetic field leads to an increase of plasma density in the discharge on several times. The presence of an anode electromagnetic trap causes additional ionization zones. An increase of anode magnetic field leads to an increase of the average energy of charged discharge plasma particles. As the result, it was observed an intensification of the target material sputtering process as well as an increase of coatings deposition rate. In addition, a slight increase in the magnitude of the anode magnetic field has a positive effect on the quality and purity of the deposited coatings. Представлені результати оцінки впливу параметрів додаткової анодної електромагнітної пастки для розрядних електронів у системі магнетронного розпилення. Також досліджена ефективність процесів іонізації. Експериментально показано, що незначне збільшення додаткового анодного магнітного поля призводить до збільшення щільності плазми в розряді в кілька разів. Наявність анодної електромагнітної пастки викликає додаткові зони іонізації. Збільшення анодного магнітного поля призводить до збільшення середньої енергії заряджених частинок плазми розряду. У результаті спостерігалося посилення процесу розпилення матеріалу мішені, а також збільшення швидкості нанесення покриттів. Крім того, незначне збільшення величини анодного магнітного поля позитивно впливає на якість і чистоту нанесених покриттів. 2022 Article Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 51.50.+v, 52.25.Jm DOI: https://doi.org/10.46813/2022-142-103 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195896 en Problems of Atomic Science and Technology Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
Kozhukhovskyi, B.M.
Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
Problems of Atomic Science and Technology
description Paper presents results of evaluation of the influence of the parameters of the additional anode electromagnetic trap for discharge electrons in a magnetron sputtering system. The efficiency of ionization processes is also investigated. It has been shown experimentally that a slight increase of the additional anode magnetic field leads to an increase of plasma density in the discharge on several times. The presence of an anode electromagnetic trap causes additional ionization zones. An increase of anode magnetic field leads to an increase of the average energy of charged discharge plasma particles. As the result, it was observed an intensification of the target material sputtering process as well as an increase of coatings deposition rate. In addition, a slight increase in the magnitude of the anode magnetic field has a positive effect on the quality and purity of the deposited coatings.
format Article
author Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
Kozhukhovskyi, B.M.
author_facet Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
Kozhukhovskyi, B.M.
author_sort Chunadra, А.G.
title Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
title_short Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
title_full Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
title_fullStr Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
title_full_unstemmed Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
title_sort influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2022
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195896
citation_txt Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai, B.M. Kozhukhovskyi // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 6. — С. 103-106. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
series Problems of Atomic Science and Technology
work_keys_str_mv AT chunadraag influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem
AT seredakn influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem
AT tarasovik influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem
AT makhlaiva influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem
AT kozhukhovskyibm influenceofmagneticfieldconfigurationandstrengthonplasmaparametersandefficiencyofcoatingsdepositioninmagnetronsputteringsystem
first_indexed 2024-03-31T09:17:48Z
last_indexed 2024-03-31T09:17:48Z
_version_ 1796158104831787008

Схожі ресурси