Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формирова...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2002
Автори: Савицкий, Г.В., Бончик, А.Ю., Ижнин, И.И., Кияк, С.Г., Могиляк, И.А., Тростинский, И.П.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70808
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-70808
record_format dspace
spelling irk-123456789-708082014-11-14T03:01:38Z Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” Савицкий, Г.В. Бончик, А.Ю. Ижнин, И.И. Кияк, С.Г. Могиляк, И.А. Тростинский, И.П. Новое технологическое оборудование для микроэлектроники Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем. Modernisation of the “Oникс” system for photon annealing of semiconductor wafers was carried out. It has provided to increase a repetition and reproducibility of the temperature-time annealing cycles with small duration at high temperature increasing rate. The control software of the IBM compatible PC allows to form the temperature-time annealing cycle according to adjusted one with the time accuracy established about 0,01 s at the typical annealing time up to 100 s and annealing temperature up to 1000°C. 2002 Article Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70808 621.382: 621.315.59 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
spellingShingle Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем.
format Article
author Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
author_facet Савицкий, Г.В.
Бончик, А.Ю.
Ижнин, И.И.
Кияк, С.Г.
Могиляк, И.А.
Тростинский, И.П.
author_sort Савицкий, Г.В.
title Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_short Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_full Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_fullStr Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_full_unstemmed Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”
title_sort модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “оникс”
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2002
topic_facet Новое технологическое оборудование для микроэлектроники
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70808
citation_txt Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT savickijgv modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT bončikaû modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT ižninii modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT kiâksg modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT mogilâkia modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
AT trostinskijip modernizaciâustanovkifotonnogootžigapoluprovodnikovyhplastinoniks
first_indexed 2023-10-18T18:59:21Z
last_indexed 2023-10-18T18:59:21Z
_version_ 1796145702933364736

Схожі ресурси