Influence of magnetic field strength on the focusing properties of a high-current plasma lens

We present results of experimental studies of the operation of the high-current wide-aperture plasma lens in the range of low magnetic fields. Investigations of focusing of copper and carbon ion beams with current up to 0,5 A and energy up to 20 keV by a plasma lens with aperture ~7 cm were conducte...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2000
Автори: Goncharov, A.A., Gubarev, S.M., Protsenko, I.M., Brown, I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78545
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of magnetic field strength on the focusing properties of a high-current plasma lens / A.A. Goncharov, S.M. Gubarev, I.M. Protsenko, I. Brown // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 6. — С. 124-127. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine