Large-area surface wave plasma source
A surface wave plasma source for the production of a large-diameter, high electron density and low electron temperature plasma at low pressure without using a magnetic field for plasma processing and thin film preparation are. The DC or RF voltage with the frequency of 13.56 MHz can supply the sourc...
Збережено в:
Дата: | 2002 |
---|---|
Автори: | Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Sereda, K.N., Tseluyko, A.Ph., Yunakov, N.N., Gapon, A.V., Kashaba, A.Y. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79286 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Large-area surface wave plasma source / N.A. Azarenkov, A.A. Bizyukov, A.V. Gapon, A.Y. Kashaba, K.N. Sereda, A.Ph. Tseluyko, N.N. Yunakov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 118-120. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000) -
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003) -
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)