Optimization of the collecting mirror location in the plasma source of extreme ultraviolet radiation

The paper is devoted to searching the optimal location of first collecting mirror in the extreme ultraviolet radiation plasma sources. It is shown that the system efficiency can be increased by 1.5…2.5 times in the case of elliptical plasma radiation pattern and the optimal location of the first col...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2015
Автори: Borgun, Ie.V., Hrechko, Ya.O., Azarenkov, N.A., Dimitrova, V.D., Ryabchikov, D.L., Sereda, I.N., Hryhorenko, A.V., Tseluyko, A.F.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82144
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Optimization of the collecting mirror location in the plasma source of extreme ultraviolet radiation / Ie.V. Borgun, Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov1, V.D. Dimitrova, D.L. Ryabchikov1, I.N. Sereda, A.V. Hryhorenko, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 174-176. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:The paper is devoted to searching the optimal location of first collecting mirror in the extreme ultraviolet radiation plasma sources. It is shown that the system efficiency can be increased by 1.5…2.5 times in the case of elliptical plasma radiation pattern and the optimal location of the first collecting mirror. In this case the first collecting mirror should cover the plasma on lateral side.