Optimization of the collecting mirror location in the plasma source of extreme ultraviolet radiation
The paper is devoted to searching the optimal location of first collecting mirror in the extreme ultraviolet radiation plasma sources. It is shown that the system efficiency can be increased by 1.5…2.5 times in the case of elliptical plasma radiation pattern and the optimal location of the first col...
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2015
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82144 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Optimization of the collecting mirror location in the plasma source of extreme ultraviolet radiation / Ie.V. Borgun, Ya.O. Hrechko, N.A. Azarenkov1, V.D. Dimitrova, D.L. Ryabchikov1, I.N. Sereda, A.V. Hryhorenko, A.F. Tseluyko // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 174-176. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | The paper is devoted to searching the optimal location of first collecting mirror in the extreme ultraviolet radiation plasma sources. It is shown that the system efficiency can be increased by 1.5…2.5 times in the case of elliptical plasma radiation pattern and the optimal location of the first collecting mirror. In this case the first collecting mirror should cover the plasma on lateral side. |
---|