Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional r...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2007 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110582 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862566033260281856 |
|---|---|
| author | Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| author_facet | Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| citation_txt | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂. Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species.
Представлено результати досліджень магнетронної розпилювальної системи, що застосовується для синтезу високоякісних окисних покриттів. В робочу камеру кисень напускається вже попередньо активованим за допомогою високочастотного індукційного джерела, що є альтернативою звичайному реактивному магнетронному нанесенню, коли до робочої камери подається молекулярний кисень O₂. Досліджено характеристики процесу нанесення, як з попередньою активацією реактивного газу, так і без неї.
Представлены результаты исследований магнетронной распылительной системы, используемой для синтеза высококачественных оксидных покрытий. В рабочую камеру кислород напускается уже предварительно активированный при помощи источника на базе высокочастотного индукционного разряда, что является альтернативой обычному реактивному магнетронному нанесению, когда в рабочую камеру напускается молекулярный кислород O₂. Исследованы характеристики процесса нанесения, как с предварительной активацией реактивного газа, так и без.
|
| first_indexed | 2025-11-26T00:08:22Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-110582 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-26T00:08:22Z |
| publishDate | 2007 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. 2017-01-04T20:08:59Z 2017-01-04T20:08:59Z 2007 Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110582 The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂. Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species. Представлено результати досліджень магнетронної розпилювальної системи, що застосовується для синтезу високоякісних окисних покриттів. В робочу камеру кисень напускається вже попередньо активованим за допомогою високочастотного індукційного джерела, що є альтернативою звичайному реактивному магнетронному нанесенню, коли до робочої камери подається молекулярний кисень O₂. Досліджено характеристики процесу нанесення, як з попередньою активацією реактивного газу, так і без неї. Представлены результаты исследований магнетронной распылительной системы, используемой для синтеза высококачественных оксидных покрытий. В рабочую камеру кислород напускается уже предварительно активированный при помощи источника на базе высокочастотного индукционного разряда, что является альтернативой обычному реактивному магнетронному нанесению, когда в рабочую камеру напускается молекулярный кислород O₂. Исследованы характеристики процесса нанесения, как с предварительной активацией реактивного газа, так и без. The work was supported by COST 532 grant M 12 and Ministry of Education and Science of Ukraine (Project 0100U003301). en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Вплив активації кисню на процес реактивного магнетронного синтезу покриттів з окису алюмінію Влияние активации кислорода на процесс реактивного магнетронного синтеза покрытий оксида алюминия Article published earlier |
| spellingShingle | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_alt | Вплив активації кисню на процес реактивного магнетронного синтезу покриттів з окису алюмінію Влияние активации кислорода на процесс реактивного магнетронного синтеза покрытий оксида алюминия |
| title_full | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_fullStr | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_full_unstemmed | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_short | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_sort | oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110582 |
| work_keys_str_mv | AT walkowiczj oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT zykovav oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT dudinsv oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT yakovinsd oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT walkowiczj vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT zykovav vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT dudinsv vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT yakovinsd vplivaktivacííkisnûnaprocesreaktivnogomagnetronnogosintezupokrittívzokisualûmíníû AT walkowiczj vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT zykovav vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT dudinsv vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ AT yakovinsd vliânieaktivaciikislorodanaprocessreaktivnogomagnetronnogosintezapokrytiioksidaalûminiâ |