Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
The envelope method was used to determine optical constants of TiO₂ thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques. The density and thickness of the thin films were calculated. Optical properties of the TiO₂ thin films were strongly dependent on...
Збережено в:
| Дата: | 2011 |
|---|---|
| Автори: | Brus, V.V., Kovalyuk, Z.D., Parfenyuk, O.A., Vakhnyak, N.D. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2011
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117790 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques / V.V. Brus, Z.D. Kovalyuk, O.A. Parfenyuk, N.D. Vakhnyak // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2011. — Т. 14, № 4. — С. 427-431. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011) -
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2005) -
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)