Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.
Saved in:
| Date: | 1998 |
|---|---|
| Main Authors: | Вакив, Н.М., Погорилко, Я.Р., Шпотюк, О.И. |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1998
|
| Series: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/140779 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineSimilar Items
-
Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления
by: Вакив, Н.М., et al.
Published: (1998) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Болтовец, Н.С., et al.
Published: (2009) -
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
by: Болтовец, Н.С., et al.
Published: (2009) -
Получение двухсторонних высоковольтных эпитаксиальных кремниевых p—i—n-структур методом ЖФЭ
by: Вакив, Н.М., et al.
Published: (2013) -
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
by: Костин, Е.Г., et al.
Published: (2008)