Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2009
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipmentСхожі ресурси
-
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
за авторством: Федорович, О.А., та інші
Опубліковано: (2009) -
Повышение надежности диодов Шоттки при воздействии разрядов cтатического электричества
за авторством: Sоlоdukha, V. A., та інші
Опубліковано: (2012) -
Радиационная стойкость нитевидных кристаллов SiGe, используемых для сенсоров физических величин
за авторством: Druzhinin, A. A., та інші
Опубліковано: (2011) -
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок
за авторством: Ivanchykau, A. E., та інші
Опубліковано: (2009) -
Исследование свойств пленок нитрида и оксида кремния, полученных методом плазмохимического осаждения на кремниевую подложку
за авторством: Rubtsevich, I. I., та інші
Опубліковано: (2011)