Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
Results of technological researches of plasmachemical reactor (PCR) for etching of silicon plate edges of photo-electric converters are described. Dependences of silicon etching speed on a discharge current, magnetic field intensity, quantity of the process able surface area and gases composition ar...
Gespeichert in:
| Datum: | 2009 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2009.6.46 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipmentÄhnliche Einträge
-
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей
von: Федорович, О.А., et al.
Veröffentlicht: (2009) -
Повышение надежности диодов Шоттки при воздействии разрядов cтатического электричества
von: Sоlоdukha, V. A., et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Радиационная стойкость нитевидных кристаллов SiGe, используемых для сенсоров физических величин
von: Druzhinin, A. A., et al.
Veröffentlicht: (2011) -
Изменение свойств пленок кремнийорганических стекол после термической и плазмохимической обработок
von: Ivanchykau, A. E., et al.
Veröffentlicht: (2009) -
Исследование свойств пленок нитрида и оксида кремния, полученных методом плазмохимического осаждения на кремниевую подложку
von: Rubtsevich, I. I., et al.
Veröffentlicht: (2011)