Некоторые особенности фотоэлектрических характеристик двухбазовой Ag–N⁰Al₀.₂Ga₀.₈As–n⁺GaAs–n⁰Ga₀.₉In₀.₁As–Au-структуры
The photoelectric characteristics of the fabricated double-base Ag–N0Al0,2Ga0,8As–n+GaAs–n0Ga0,9In0,1As–Au structures, sensitive on both sides, have been investigated in photodiode and photovoltaic modes under irradiation determined by the intrinsic absorption region of each heterolayer. The obtaine...
Збережено в:
| Дата: | 2008 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2008.3.46 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Репозитарії
Technology and design in electronic equipmentБудьте першим, хто залишить коментар!