Simulation study on airflow field uniformity of HFCVD deposition system by filament spacing
Збережено в:
Дата: | 2021 |
---|---|
Автори: | F. Deng, C. Hao, Zh. Guo, Sh. Wang, X. Bo, Q. Lei |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2021
|
Назва видання: | Superhard Materials |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001235610 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Effects of carbonization of filaments on CVD diamond thick films prepared by HFCVD method
за авторством: Fuming Deng, та інші
Опубліковано: (2020) -
Simulation of airflow at Vernadsky station for multi-site damage identification
за авторством: Tsybulnyk, S., та інші
Опубліковано: (2017) -
Enhancement of adhesion of diamond coating on cemented carbide by laser modified substrate surface structure pretreatment
за авторством: Zh. Lei, та інші
Опубліковано: (2021) -
HFCVD synthesis of boron-doped microcrystalline diamonds
за авторством: Tao Zhang, та інші
Опубліковано: (2019) -
Spectral Analysis of Airflow Rate During Forced Expiratory Process
за авторством: Lopata, V.A., та інші
Опубліковано: (2014)