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Influence of the surface roughness and oxide surface layer onto Si optical constants measured by the ellipsometry technique

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2015
Hauptverfasser:	T. S. Rozouvan, L. V. Poperenko, I. A. Shaykevich
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2015
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000353228
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