Influence of the surface roughness and oxide surface layer onto Si optical constants measured by the ellipsometry technique
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | T. S. Rozouvan, L. V. Poperenko, I. A. Shaykevich |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2015
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000353228 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Influence of the surface roughness and oxide surface layer onto Si optical constants measured by the ellipsometry technique
за авторством: Rozouvan, T.S., та інші
Опубліковано: (2015) -
Ellipsometry and optical spectroscopy of low-dimensional family TMDs
за авторством: V. G. Kravets, та інші
Опубліковано: (2017) -
Origin of surface layer on common substrates for functional material films probed by ellipsometry
за авторством: Belyaeva, A.I., та інші
Опубліковано: (2003) -
The enhancement of optical processes near rough surface of metals
за авторством: Dovbeshko, G.I., та інші
Опубліковано: (2004) -
Optical constants of surface layer on gadolinium gallium garnet: ellipsometric study
за авторством: Belyaeva, A.I., та інші
Опубліковано: (1999)