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Mechanisms of contact resistance formation in ohmic contacts with high dislocation density (review)

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2013
Hauptverfasser:	A. V. Sachenko, A. E. Beljaev, N. S. Boltovets, R. V. Konakova, V. N. Sheremet
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2013
Schriftenreihe:	Optoelectronics and Semiconductor Technique
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363118
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