Оптичнi та електрофiзичнi властивостi гетероструктури 95% In2O3 + 5% SnO2/ns-Si

Optical and electrical properties of 95% In2O3 + 5% SnO2/ns-Si heterostructures with films 6 and 12 nm in thickness deposited on a nanostructured silicon surface by the magnetron sputtering have been considered. It is shown that the 6-nm film is characterized by several peaks in the optical absorpti...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2019
Hauptverfasser: Vinichenko, V. A., Buchenko, V. V., Goloborodko, N. S., Lendel, V. V., Lushkin, A. E., Telega, V. N.
Format: Artikel
Sprache:English
Ukrainian
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2019
Schlagworte:
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019105
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Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics