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Харвестер відкритої науки НАН України
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Fomin, A.V.
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1
Investigation of the effect of technological parameters on efficiency of chemical string cutting of semiconductor materials
von
Kravetsky, M.Yu.
,
Sypko, S.A.
,
Fomin, A.V.
Veröffentlicht in
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
(2002)
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Model of smoothing roughness on GaAs wafer surface by using nonabrasive chemical-and-mechanical polishing
von
Fomin, A.V.
,
Pashchenko, G.A.
,
Kravetskyi, M.Yu.
,
Lutsyshyn, I.G.
Veröffentlicht in
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
(2017)
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3
Balance model for contactless chemo-mechanical polishing of wafers
von
Grigoriev, N.N.
,
Kravetsky, M.Yu.
,
Paschenko, G.A.
,
Sypko, S.A.
,
Fomin, A.V.
Veröffentlicht in
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
(2002)
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