Харвестер відкритої науки НАН України

Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю...

von Hladkovskiy, V. V., Fedorovich, O. A.
Veröffentlicht 2018

The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry

von Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2016)

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon

von Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2015)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields

von Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2015)

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок...

von Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.
Veröffentlicht 2014