Харвестер відкритої науки НАН України

Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю...

за авторством Hladkovskiy, V. V., Fedorovich, O. A.
Опубліковано 2018

The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry

за авторством Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2016)

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon

за авторством Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2015)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields

за авторством Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2015)

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок...

за авторством Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.
Опубліковано 2014