The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry за авторством Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.

Отримати повний текст

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon за авторством Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.

Отримати повний текст

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields за авторством Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.

Отримати повний текст

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок... за авторством Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.

Отримати повний текст