Показ
1 - 4
результатів із
4
для пошуку '
Hladkovskiy, V.V.
'
Перейти до змісту
VuFind
Ваш обліковий запис
Вихід
Логін
Мова
English
Deutsch
Українська
Всі поля
Назва
Назва журналу
Автор
Предмет
Опис
Тег
Знайти
Розширений
Автор
Hladkovskiy, V.V.
Показ
1 - 4
результатів із
4
для пошуку '
Hladkovskiy, V.V.
'
, час виконання запиту: 0.01сек.
Уточнити результати
Сортувати
Релевантність
Дата у спадаючому порядку
Дата у зростаючому порядку
Шифр
Автор
Назва
Вибрати сторінку | з відміченими:
Е-пошта
Експорт
Друк
Зберегти
Вибрати результат під номером 1
1
Спектроскопiчнi дослiдження плазми високочастотного розряду при плазмохiмiчному травленнi епiтаксiальних структур нiтриду галiю...
за авторством
Hladkovskiy, V. V.
,
Fedorovich, O. A.
Опубліковано 2018
Отримати повний текст
Стаття
Додати у Вибране
Збережено в:
Вибрати результат під номером 2
2
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
за авторством
Hladkovskiy, V.V.
,
Polozov, B.P.
,
Fedorovich, O.A.
Опубліковано 2016
Отримати повний текст
Стаття
Додати у Вибране
Збережено в:
Вибрати результат під номером 3
3
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством
Hladkovskiy, V.V.
,
Fedorovich, O.A.
,
Polozov, B.P.
,
Kruglenko, M.P.
Опубліковано 2015
Отримати повний текст
Стаття
Додати у Вибране
Збережено в:
Вибрати результат під номером 4
4
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством
Fedorovich, О.А.
,
Hladkovskiy, V.V.
,
Polozov, B.P.
,
Kruglenko, М.P.
Опубліковано 2015
Отримати повний текст
Стаття
Додати у Вибране
Збережено в:
Вибрати сторінку | з відміченими:
Е-пошта
Експорт
Друк
Зберегти
Інструменти для пошуку:
Отримати RSS-стрічку
–
Відправити пошук е-поштою
Пов'язані теми
-
Plasma diagnostics
bias voltage
optical spectroscopy
plasma-chemical etching
plasma-chemical reactor
radio-frequency discharge
sputtering
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Экспериментальные методы и обработка данных