Результати пошуку - Hladkovskiy, V.V.
- Показ 1 - 5 результатів із 5
-
1
-
2
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry за авторством Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2016)Отримати повний текст
Стаття -
3
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon за авторством Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2015)Отримати повний текст
Стаття -
4
-
5
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок... за авторством Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.
Опубліковано 2014Отримати повний текст
Стаття
Інструменти для пошуку:
Пов'язані теми
-
Plasma diagnostics
bias voltage
carbon diamond-like films
heating temperature
optical spectroscopy
plasma chemical reactor
plasma-chemical etching
plasma-chemical reactor
radio-frequency discharge
sputtering
substrate
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Экспериментальные методы и обработка данных
плазмохимический реактор
подложка
температура нагрева
углеродные алмазоподобные пленки