Suchergebnisse - Hladkovskiy, V.V.
- Treffer 1 - 5 von 5
-
1
-
2
-
3
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon von Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2015)Volltext
Artikel -
4
-
5
Suchwerkzeuge:
Ähnliche Schlagworte
-
Plasma diagnostics
bias voltage
carbon diamond-like films
heating temperature
optical spectroscopy
plasma chemical reactor
plasma-chemical etching
plasma-chemical reactor
radio-frequency discharge
sputtering
substrate
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Экспериментальные методы и обработка данных
плазмохимический реактор
подложка
температура нагрева
углеродные алмазоподобные пленки