The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry von Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.

Volltext

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon von Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.

Volltext

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields von Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.

Volltext

Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок... von Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.

Volltext