Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional r...
Збережено в:
| Дата: | 2007 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111311 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-111311 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1113112017-01-10T03:03:56Z Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. Low temperature plasma and plasma technologies The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂ . Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species. Представлено результати досліджень магнетронної розпилювальної системи, що застосовується для синтезу високоякісних окисних покриттів. В робочу камеру кисень напускається вже попередньо активованим за допомогою високочастотного індукційного джерела, що є альтернативою звичайному реактивному магнетронному нанесенню, коли до робочої камери подається молекулярний кисень O₂ . Досліджено характеристики процесу нанесення, як з попередньою активацією реактивного газу, так і без неї. Представлены результаты исследований магнетронной распылительной системы, используемой для синтеза высококачественных оксидных покрытий. В рабочую камеру кислород напускается уже предварительно активированный при помощи источника на базе высокочастотного индукционного разряда, что является альтернативой обычному реактивному магнетронному нанесению, когда в рабочую камеру напускается молекулярный кислород O₂. Исследованы характеристики процесса нанесения, как с предварительной активацией реактивного газа, так и без. 2007 Article Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111311 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies |
| spellingShingle |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings Вопросы атомной науки и техники |
| description |
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional reactive sputtering techniques employing the injection of ground state molecular O₂ . Characteristics of deposition behavior are investigated with and without the activation of the reactive species. |
| format |
Article |
| author |
Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| author_facet |
Walkowicz, J. Zykov, A.V. Dudin, S.V. Yakovin, S.D. |
| author_sort |
Walkowicz, J. |
| title |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_short |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_full |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_fullStr |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_full_unstemmed |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| title_sort |
oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2007 |
| topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111311 |
| citation_txt |
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT walkowiczj oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT zykovav oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT dudinsv oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings AT yakovinsd oxygenactivationeffectonreactivemagnetronsynthesisofaluminacoatings |
| first_indexed |
2024-03-30T09:16:14Z |
| last_indexed |
2024-03-30T09:16:14Z |
| _version_ |
1796149767988838400 |