Modeling the process of removal aimed at cut traces on semiconductor wafers by using the method of contactless chemical-and-dynamical polishing
Used in this work is the stationary model of the process of chemical-anddynamical polishing (CDP) the substrates in the case of balance between diffusion, convective and chemical fluxes. Obtained has been an analytical expression relating the surface shape in processed material with physical paramet...
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | Pashchenko, G.A., Kravetskyi, M.Yu., Fomin, A.V. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2015
|
Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121227 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Modeling the process of removal aimed at cut traces on semiconductor wafers by using the method of contactless chemical-and-dynamical polishing / G.A. Pashchenko, M.Yu. Kravetskyi, A.V. Fomin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2015. — Т. 18, № 3. — С. 330-333. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Modeling the process of removal aimed at cut traces on semiconductor wafers by using the method of contactless chemical-and-dynamical polishing
за авторством: G. A. Pashchenko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Balance model for contactless chemo-mechanical polishing of wafers
за авторством: Grigoriev, N.N., та інші
Опубліковано: (2002) -
Model of smoothing roughness on GaAs wafer surface by using nonabrasive chemical-and-mechanical polishing
за авторством: A. V. Fomin, та інші
Опубліковано: (2017) -
Investigation of the effect of technological parameters on efficiency of chemical string cutting of semiconductor materials
за авторством: Kravetsky, M.Yu., та інші
Опубліковано: (2002) -
Relative Motion Control System of Spacecraft for Contactless Space Debris Removal
за авторством: S. V. Khoroshylov
Опубліковано: (2018)